申請(qǐng)人將撰寫完成的發(fā)明的申請(qǐng)文件提交到國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局以后，在該發(fā)明授權(quán)或駁回前，申請(qǐng)人可以依照《專利法》以及《專利法實(shí)施細(xì)則》的規(guī)定，對(duì)該發(fā)明的申請(qǐng)文件進(jìn)行修改。申請(qǐng)人對(duì)申請(qǐng)文件的修改中，以對(duì)權(quán)利要求的修改為重點(diǎn)。下面結(jié)合一個(gè)實(shí)例，淺談筆者對(duì)權(quán)利要求修改的一點(diǎn)見解。 　　一、案例描述 申請(qǐng)人所提交的發(fā)明的申請(qǐng)文件中，獨(dú)立權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)技術(shù)方案A，權(quán)利要求2是權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求，權(quán)利要求2請(qǐng)求保護(hù)技術(shù)方案B，但是技術(shù)方案A與技術(shù)方案B是兩個(gè)相互獨(dú)立的并列的技術(shù)方案，因此，實(shí)質(zhì)上權(quán)利要求2并不能作為權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求。 當(dāng)發(fā)明的申請(qǐng)文件的權(quán)利要求出現(xiàn)上述缺陷時(shí)，一般情況下，常見的一種修改方式為，對(duì)技術(shù)方案A和技術(shù)方案B進(jìn)行上位，獲得一個(gè)能夠涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個(gè)技術(shù)方案C，將技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求，將保護(hù)技術(shù)方案A的權(quán)利要求和保護(hù)技術(shù)方案B的權(quán)利要求，分別作為該新的獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求。 上述修改方式是否被允許呢？筆者在下述內(nèi)容中主要依據(jù)兩個(gè)法條進(jìn)行詳細(xì)闡述，第一，專利法第33條的規(guī)定；第二，專利法實(shí)施細(xì)則的第51條的規(guī)定。 　　二、依據(jù)專利法第33條的規(guī)定進(jìn)行闡述 專利法第33條規(guī)定：申請(qǐng)人可以對(duì)其專利申請(qǐng)文件進(jìn)行修改，但是，對(duì)發(fā)明和實(shí)用新型專利申請(qǐng)文件的修改不得超出原說(shuō)明書和權(quán)利要求書記載的范圍，對(duì)外觀設(shè)計(jì)專利申請(qǐng)文件的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。 因此，在對(duì)發(fā)明的申請(qǐng)文件的權(quán)利要求進(jìn)行修改時(shí)，修改后的權(quán)利要求需要符合專利法第33條的規(guī)定，即修改后的權(quán)利要求不能超出原說(shuō)明書和權(quán)利要求書所記載的范圍。 那么，怎么判斷修改后的權(quán)利要求是否符合專利法第33條的規(guī)定呢？《專利審查指南》2010版第二部分第八章5.2.1.1中明確說(shuō)明：“原說(shuō)明書和權(quán)利要求書記載的范圍包括原說(shuō)明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容和根據(jù)原說(shuō)明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說(shuō)明書附圖能直接地、毫無(wú)疑義地確定的內(nèi)容”。也就是說(shuō)，修改后的權(quán)利要求若想滿足專利法第33條的規(guī)定，則需滿足下述兩個(gè)條件中的任意一個(gè)即可： 第一個(gè)條件，修改后的權(quán)利要求在原說(shuō)明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載； 第二個(gè)條件，修改后的權(quán)利要求在原說(shuō)明書和權(quán)利要求書中雖然沒(méi)有明確的文字記載，但是，可以根據(jù)原說(shuō)明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說(shuō)明書附圖能直接地、毫無(wú)疑義地確定。