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高新技術(shù)企業(yè)認定 增值電信業(yè)務(wù) ISO體系認證 CMMI軟件成熟度認證 專精特新企業(yè)認定 新技術(shù)新產(chǎn)品
專利競爭環(huán)境分析包括:(1)專利指標的細化、綜合和時間、空間的分析。上述專利指標的描述還是比較粗糙,還可進行進一步的細分,比如引證率可分為自我引證率和被(外界)引率。自我引證率描述后續(xù)專利引用自身專利的情況,引證率越高說明研發(fā)的自主性越強,被引率越高說明該項技術(shù)的含量越高。此外,各項專利指標不是孤立的,把戰(zhàn)略性指標如同族專利指數(shù)和技術(shù)性指標如科學關(guān)聯(lián)性項結(jié)合,以時間和空間為軸進行綜合分析,才可得到比較全面的信息。 (2)許多專利指針本身具有產(chǎn)業(yè)依存性。如技術(shù)生命周期會因技術(shù)領(lǐng)域不同而有所差距。相對熱門的技術(shù)其TCT較短,如電子類TCT約3至4年,而造船類TCT可能長達15年。 (3)專利指標可以測度技術(shù)發(fā)展,但不可以絕對化。重要的發(fā)明或創(chuàng)新,尤其是能夠帶來長期經(jīng)濟利益的發(fā)明,一般要申請專利。但是很多技術(shù)發(fā)明不采用專利保護方式,而采用商業(yè)秘密或盡快產(chǎn)業(yè)化的形式,因此專利與技術(shù)發(fā)明或技術(shù)創(chuàng)新并不是一一對應(yīng)的。 (4)不同領(lǐng)域之間的數(shù)據(jù)比較應(yīng)當謹慎。專利申請的傾向在不同技術(shù)領(lǐng)域之間差別很大。有的領(lǐng)域技術(shù)創(chuàng)新活動很活躍,但不適于采用專利方式取得保護,如電子信息領(lǐng)域,往往通過推向市場先發(fā)優(yōu)勢取得經(jīng)濟回報。又如專利不包括軟件、組織方法等方面的發(fā)明,因此排除了服務(wù)業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新。這樣在不同領(lǐng)域之間進行比較時,對所分析行業(yè)的特點要有所了解,才能更準確地進行比較。(5)各國專利制度的差異帶來的數(shù)據(jù)比較的障礙。由于各國專利制度的差異,各國專利的具體審核標準、審批程序等方面存在不同之處。如多項相互聯(lián)系的技術(shù)發(fā)明在美國可以合并申請一項專利,但在日本則必須提出若干項的分案申請。這樣不同國家進行比較,有時會帶來很大偏差。如專利數(shù)量差距巨大,還可以說明問題;但如果在同一或相近數(shù)量級上,就難以給出確切結(jié)論。所以做專利國際比較時,一般不用不同專利體系的數(shù)據(jù),而是選擇同一大型專利體系,如美國專利與商標局或歐洲專利局。但這又帶來另一個問題,即“本土優(yōu)勢”。(6)專利文獻時滯對分析數(shù)據(jù)的影響。盡管實行了專利申請的早期公開和延遲審查制度,很多專利的申請日和公開日之間還通常存在18個月的時滯,這對于那些技術(shù)創(chuàng)新頻繁的企業(yè),尤其是處于技術(shù)生命周期短的產(chǎn)業(yè)企業(yè)來說,將直接影響結(jié)果的分析和預(yù)測。二、定性分析 定性分析一般根據(jù)專利的內(nèi)容特征進行分類或聚類,結(jié)合時間和空間,進行比較分析、組合分析、關(guān)聯(lián)分析、序列分析、預(yù)測分析等。例如,從專利文獻的主要側(cè)重面來看,若某種技術(shù)專利文獻的內(nèi)容多以原理為主,說明該項技術(shù)處于新興期;若以應(yīng)用為主,說明處于成熟期。 三、專利地圖及其應(yīng)用 專利地圖是指對一次、二次、三次等專利文獻的統(tǒng)計結(jié)果整理成各種圖表,即將專利信息“地圖化”。專利地圖作為一種搜集、整理和顯示專利信息的工具,可視性強,便于理解,一般分為專利管理圖、專利技術(shù)圖、專利權(quán)利圖。 專利管理圖主要包括:歷年專利動向圖、各國專利占有比例圖、專利排行榜、主要競爭公司分析圖、公司專利平均年齡圖、公司發(fā)明陣容比較圖、公司定位綜合分析表、公司專利件數(shù)分布圖、公司專利件數(shù)消長圖、發(fā)明人專利件數(shù)分布圖等,主要顯示了技術(shù)的發(fā)展趨勢,進行競爭企業(yè)的實力剖析和動向預(yù)測。 專利技術(shù)圖包括IPC(國際分類)分析圖、技術(shù)生命周期圖、專利技術(shù)功效矩陣圖、專利技術(shù)分布圖、專利技術(shù)領(lǐng)域累計圖、專利多種觀點解析圖、挖洞技術(shù)顯微圖等。技術(shù)圖鎖定某項技術(shù)或公司進行地毯式搜索,主要顯示技術(shù)演變、擴散狀況、研發(fā)策略、回避設(shè)計、挖洞技術(shù)的可行性。 專利權(quán)利圖主要包括專利范圍構(gòu)成要件圖、專利范圍要點圖、專利家族圖、重要專利引用族譜圖,主要剖析研發(fā)空間和市場空間。 專利地圖的制作流程為:確定專利分析主題-建立專利檢索策略和分類方法-專利文獻篩選、分類-專利文獻閱讀解析-建立專利管理圖、技術(shù)圖、權(quán)利圖-專利地圖庫信息解析-重要專利全文精析-技術(shù)創(chuàng)新、侵權(quán)比對、回避設(shè)計-專利申請驗證-專利地圖更新。
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