獲得授權(quán)須滿足專利法規(guī)定的形式要件和實質(zhì)要件。所謂形式要件就是依照專利法以及國家知識產(chǎn)權(quán)局的相關(guān)規(guī)定，按所規(guī)定的流程和期限提交專利法所要求的專利申請文件，并且按時繳納相關(guān)費用。所謂實質(zhì)要件就是發(fā)明專利獲得授權(quán)以及實用新型和外觀設(shè)計免于被無效所應(yīng)符合的條件。通常是指專利的新穎性、創(chuàng)造性和實用性。

對于專利授權(quán)的形式要件，專利法規(guī)定，申請發(fā)明或者實用新型專利的，應(yīng)當提交請求書、說明書及其摘要和權(quán)利要求書等文件，請求書應(yīng)當寫明發(fā)明或者實用新型的名稱，發(fā)明人的姓名，申請人姓名或者名稱、地址，以及其他事項；說明書應(yīng)當對發(fā)明或者實用新型作出清楚、完整的說明，以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準，必要的時候，應(yīng)當有附圖；摘要應(yīng)當簡要說明發(fā)明或者實用新型的技術(shù)要點；權(quán)利要求書應(yīng)當以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護的范圍；依賴遺傳資源完成的發(fā)明創(chuàng)造，申請人應(yīng)當在專利申請文件中說明該遺傳資源的直接來源和原始來源，申請人無法說明原始來源的，應(yīng)當陳述理由。另外，專利法還規(guī)定，申請外觀設(shè)計專利的，應(yīng)當提交請求書、該外觀設(shè)計的圖片或者照片以及對該外觀設(shè)計的簡要說明等文件。

對于發(fā)明專利授權(quán)和實用新型專利免于被無效的實質(zhì)要件，專利法規(guī)定，授予專利權(quán)的發(fā)明和實用新型，應(yīng)當具備新穎性、創(chuàng)造性和實用性。新穎性是指該發(fā)明或者實用新型不屬于現(xiàn)有技術(shù)，也沒有任何單位或者個人就同樣的發(fā)明或者實用新型在申請日以前向國家知識產(chǎn)權(quán)局提出過申請，并記載在申請日以后公布的專利申請文件或者公告的專利文件中；創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該發(fā)明具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的進步，該實用新型具有實質(zhì)性特點和進步；實用性，是指該發(fā)明或者實用新型能夠制造或者使用，并且能夠產(chǎn)生積極效果；所謂現(xiàn)有技術(shù)，是指申請日以前在國內(nèi)外為公眾所知的技術(shù)。對于外觀設(shè)計專利授權(quán)的實質(zhì)要件，專利法規(guī)定，授予專利權(quán)的外觀設(shè)計，應(yīng)當不屬于現(xiàn)有設(shè)計，也沒有任何單位或者個人就同樣的外觀設(shè)計在申請日以前向國家知識產(chǎn)權(quán)局提出過申請，并記載在申請日以后公告的專利文件中；授予專利權(quán)的外觀設(shè)計與現(xiàn)有設(shè)計或者現(xiàn)有設(shè)計特征的組合相比，應(yīng)當具有明顯區(qū)別；授予專利權(quán)的外觀設(shè)計不得與他人在申請日以前已經(jīng)取得的合法權(quán)利相沖突；所謂現(xiàn)有設(shè)計，是指申請日以前在國內(nèi)外為公眾所知的設(shè)計。

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